本文標(biāo)題："顯微鏡分析固體材料表面的顯微結(jié)構(gòu)與化學(xué)成分"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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隨著微電子與奈米科技的發(fā)展，材料的結(jié)構(gòu)尺寸不斷地趨于淺薄細(xì)微，使得其表面與介面特性的影響度
相對(duì)地大幅提高。因此精確量測(cè)及分析奈米結(jié)構(gòu)的表面和物體介面的物理化學(xué)特性，
是加速此研究領(lǐng)域發(fā)展極為重要的工作。X 光光電子能譜術(shù)(X-ray PhotoelectronSpectroscopy, XPS,
或稱為化學(xué)分析電子能譜術(shù)，Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)為
分析固體材料表面的電子結(jié)構(gòu)與化學(xué)成分之重要方法。它除了有很高的表面靈敏度以及甚佳的化學(xué)分析能力，光
子輻射線對(duì)于物質(zhì)的破壞性較低且電荷的累積效應(yīng)也較輕微，因此被廣泛地應(yīng)用于金屬，半導(dǎo)體，非導(dǎo)體以及
有機(jī)材料的研究。XPS 之分析功能是藉著各化合物不同化學(xué)結(jié)合狀態(tài)產(chǎn)生之位移
(Chemical state or bonding shift) 來測(cè)量的。一般的 ESCA 分析儀器因 X 光光源強(qiáng)度不足，
難以做細(xì)微的局部化學(xué)分析，在目前商業(yè)產(chǎn)品中有改良式電子透鏡的 ESCA 偵測(cè)系統(tǒng)，但空間解析度
仍難超越 3 微米左右，其區(qū)域解析功能甚為有限。
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